设备名称：X射线光电子能谱仪

                                                        设备型号：AXISSUPRAX

                                                        制造商：岛津（英国KRATOS公司）

                                                        地点：重点实验室南楼 115室

                                                        管理人：赵坤

一、设备介绍

X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术设备，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（B.E)。

二、技术参数

1. 靶材：配置最大功率600 W Al/Ag单色双阳极靶；

2. 单色器：石英晶体单色器，罗兰圆直径500 mm；

3. 轴向：5轴样品台，即X、Y、Z移动，绕轴和绕样品面法线转动；

4. 移动：X方向150mm，Y方向30mm，Z方向18mm；

5. 最大扫描面积：5mm×5mm；

6. 离子能量：100eV～5keV连续可调；

7. 束斑大小：200µm～1.5mm连续可调；

8. 能量扫描范围：-10eV～3200eV（XPS）/0eV～65eV（UPS）；

9. 最小扫描能量步长：3.125meV（XPS）/ 1meV（UPS）；

10. 谱仪控制：全计算机自动控制。

三、主要功能

      主要用于材料表面元素定性、定量分析及化学状态识别。在材料科学、凝聚态物理学、环境生态学、分子生物学、电子结构的基本研究、薄膜分析、半导体研究和技术、电子结构和化学键、异相催化、腐蚀和钝化、分凝和表面迁移、分子吸附和脱附研究等领域有广范应用。主要检测样品类型包括：金属、无机非金属、有机高分子材料等各种固体材料。功能包括:

     1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。

     2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）。

     3. 线扫瞄或面扫瞄以得到线或面上的元素或化学态分布。

     4. 成像功能。

     5. 可进行样品的原位处理 AES：1.可进行样品表面的微区选点分析（包括点分析，线分析和面分析） 2.可进行深度分析适合： 纳米薄膜材料，微电子材料，催化剂，摩擦化学，高分子材料的表面和界面研究。