2012年9月21日下午，应甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室邀请，中国科学院金属研究所朱银莲研究员来我校进行学术交流。

在重点实验室308室，朱银莲研究员作了题为“材料结构与缺陷分析中的透射电子显微术”的报告。报告中，朱研究员先介绍了材料基础科学问题的电子显微学研究，接着以单相多铁性BiFeO₃薄膜、复合多铁性Fe/BaTiO₃薄膜、超巨磁阻Nd_0.45Sr_0.55MnO₃薄膜、高K栅介质Er₂O₃薄膜等功能氧化物薄膜为例，详细介绍了透射电子显微术在材料结构与缺陷分析中的具体应用。由于在薄膜的制备及分析中，界面的性质及作用是非常重要的，因此，朱银莲研究员重点介绍了如何综合运用电子衍射、高分辨成像及成分分析等对薄膜界面进行分析。最后，朱银莲研究员介绍了材料结构与缺陷分析中评价项目和可以采用的方法，以及电子显微技术在材料科学研究领域应用的最新进展情况。

朱银莲研究员精彩的报告获得了与会师生的一直好评，在报告后的讨论时间里，大家结合自身研究过程中遇到的问题，与朱银莲研究员进行了热烈的讨论。

报告会结束后，朱银莲研究员参观了我校省部共建国家重点实验室。

学术报告会现场